台积电6nm制程技术明年年底前量产,芯片仍然是驱动力

  [PConline资讯]10月9日消息,据半导体制造商台积电日前流露,该公司6纳米制程技术明年第1季度进入试产,明年年底前量产。台积电称,其极紫外光(EUV)微影技术之7纳米强效版(N7+)制程已协助客户产品大量进入市场。导入EUV微影技术的N7+奠基于该公司成功的7纳米制程之上,为6纳米和更先进制程奠定良好基础。

  台积电还表示N7 +的量产速度为史上量产速度最快的制程之1,于2019年第2季开始量产,在7纳米制程技术(N7)量产超过1年时间的情况下,N7+良率与N7已相当接近。N7 +同时提供了整体效能的提升,N7 +的逻辑密度比N7提高了15%至20%,并同时下降了功耗。台积电快速布建产能以满足多个客户对N7 +的需求。

  据悉,UV微影技术使公司能够延续推动晶片微缩,因EUV的较短波长能够更完善地解析先进制程的设计。台积电的EUV装备已达成熟生产的实力,EUV装备机台也到达大量生产的目标,在平常运作的输出功率都大于250瓦。

  台积电称,N7+的成功经验是未来先进制程技术的基石。台积电6纳米制程技术(N6)将于2020年第1季进入试产,并于年底前进入量产。随著EUV微影技术的进1步利用,N6的逻辑密度将比N7提高18%,而N6凭仗与N7完全相容的设计法则,也可大幅缩短客户产品上市的时间。

  芯片愈来愈隐形,但它仍然是驱动这1切的动力。从这个角度说,台积电可谓是数字产品更新换代的最大增进者。正是有了台积电,消费者最新款的苹果、华为手机才用上了性能最早进的处理器和通讯芯片。

为您推荐